PLACÉ SUR l'équipement en plastique de revêtement de l'évaporation PVD de vide d'électrodéposition de Chrome d'ABS

 
 

Configuration de base

 

1. Le contrôle de compteur de débit de gaz et de contrôle de flux (affichage) du système pneumatique sont adoptés.

 

 

2. Le système de contrôle électrique installera la surcharge de circuit, la rupture de l'eau et le dispositif d'alarme sain du

 

air cassé ;

 

 

3. Le système de contrôle (écran tactile + PLC), montrent des paramètres détaillés dans le contrôle en temps réel et complètement automatique de

 

le processus de fabrication entier, et stockage automatique des paramètres de processus.

 

 

4. L'équipement est équipé du système de polarisation de puissance élevée et du dépôt s'ionisant d'auxiliaire de source

 

revêtement ;

 

 

5, la chambre de revêtement, des valves et la tuyauterie sont faits d'acier inoxydable, taille de puits à dépression de Φ500

 

millimètre à Φ2000 millimètre.

 

 

6. Le système de vide se compose de la pompe mécanique, pompe de palette rotatoire, les racines pompent et la haute bonne de froid

 

pompe de diffusion d'huile de vide ou pompe moléculaire ;

 

 

7. Le procédé de protection adopte la cible plate multiple ou la cible cylindrique, avec l'alimentation CC ou le milieu multiple

 

alimentation d'énergie de fréquence.

 

 

8. Le système de pompage auxiliaire adopte un piège à basse température de vapeur d'eau ;

 

 

 

 

1. Il source secondaire d'ion cryogénique d'équipements, un certain substrat sans chauffer le matériel, il

peut directement faire le film froid d'électrodéposition à la température ambiante, économise l'énergie, augmente la productivité.

2. Le maximum de la température pour la chambre de revêtement d'outil peut 600 degrés, en plus de l'outil

Les applications de revêtement de dispositif d'enduction exigent le dispositif de chauffage, d'autres applications n'ont pas besoin du dispositif.

3. Taux de dépôt élevé, vitesse élevée de revêtement, il peut être très utilisé pour faire le revêtement décoratif, fonctionnel

revêtement sur un grand choix de produits. Ainsi c'est un équipement idéal pour faire le revêtement à haute teneur et meilleur pour la masse

production.

4. Le principe de pulvérisation de magnétron est basé sur la théorie de la décharge luminescente de cathode, il dépensent

champ magnétique extérieur de cathode près de la surface de morceau de travail. Alors elle améliore l'atome pulvérisé

taux d'ionisation. Il garde l'uniformité de pulvérisation de magnétron, peut également améliorer l'effet brillant extérieur.

5. La source d'évaporation de plasma d'arc est fiable, il peut travailler sous le courant 40A pour optimiser la cathode

et la structure de champ magnétique. Elle se produira diffusion atomique entre le revêtement et le matériel. Il

a également les avantages que la poutre de lon a aidé le dépôt.

6. Nettoyez à l'aspirateur le système de pompage, système de contrôle électrique et le système complet de métallisation sous vide peut être

adapté aux besoins du client selon des besoins des utilisateurs.

 

 

 

 

 

 

Principe de fonctionnement

 

 

Principe de fonctionnement de machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de vide : la soi-disant « éclaboussure », les électrons dedans

 

un champ électrique sous l'action d'accélérer le processus du vol au substrat avec l'atome d'argon

 

collision, ionisation un grand nombre d'ions d'argon et électrons. L'électron vole vers le substrat,

 

l'ion d'argon accélère le matériel de cible sous l'action du champ électrique, pulvérisant un grand

 

le nombre d'atome de cible, et l'atome neutre de cible (ou la molécule) est déposé sur le substrat pour former

 

film. Électron secondaire dans l'accélération à voler au substrat par le champ magnétique en cours de lorentz

 

force magnétique, l'influence du secteur confiné près du plasma de surface de cible, la densité de plasma dans

 

le secteur est électron très haut et secondaire sous l'action du champ magnétique autour de la surface de cible est

 

le mouvement circulaire, le chemin de mouvement d'électron est très long, constamment en cours de mouvement de l'impact

 

ionisation un grand nombre de bombardement d'ion d'argon de cible, après beaucoup de fois de la collision du

 

l'énergie d'électrons réduisent graduellement, moulé le joug des lignes de champ magnétique, à partir de la cible

 

matériel, le dépôt final sur le substrat.