PLACÉ SUR la machine de métallisation sous vide d'ion de Multi-arc de pulvérisation de magnétron pour le matériel

 
 
 
1. Taux de dépôt élevé, vitesse élevée de revêtement, elle peut être très utilisée pour faire le revêtement décoratif, fonctionnel
 
revêtement sur un grand choix de produits. Ainsi c'est un équipement idéal pour faire le revêtement à haute teneur et meilleur pour la masse
 
production.
 

2. Le principe de pulvérisation de magnétron est basé sur la théorie de la décharge luminescente de cathode, il dépensent
 
champ magnétique extérieur de cathode près de la surface de morceau de travail. Alors elle améliore l'atome pulvérisé
 
taux d'ionisation. Il garde l'uniformité de pulvérisation de magnétron, peut également améliorer l'effet brillant extérieur.

 
3. La source d'évaporation de plasma d'arc est fiable, il peut travailler sous le courant 40A pour optimiser la cathode
 
et la structure de champ magnétique. Elle se produira diffusion atomique entre le revêtement et le matériel. Il
 
a également les avantages que la poutre de lon a aidé le dépôt.

 
4. Nettoyez à l'aspirateur le système de pompage, système de contrôle électrique et le système complet de métallisation sous vide peut être
 
adapté aux besoins du client selon des besoins des utilisateurs.
 
 

 
 
Il applique au matériel, métiers en verre, métiers en céramique, tels nous des montres, coquille en métal de téléphone portable, sanitaire
 
articles, moule, produits électroniques, verre cristal, verres, couverts, couteaux et ainsi de suite.
 
Vous pouvez faire le revêtement résistant à l'usure superbe-dur de film, film anti-corrosif, film décoratif (la couleur d'or, a monté
 
or, café, brun, bronze, bleu, noir, blanc, gris et d'autres couleurs), elle a combiné avec la pulvérisation de magnétron
 
la technique peut être plaquée la membrane composée multicouche et l'acier inoxydable plaqué construit,
 
l'aluminium, le titane, le tungstène et d'autres films en métal peuvent être fabriqués en tant qu'ÉTAIN enduit, le TIC, TICN, TIALN,
 
CRN, CU, AU, film de diamant (DLC), métal décoratif de film, film et film composé non métallique de revêtement et
 
son film de composés.
 

Principe de fonctionnement

Principe de fonctionnement de machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de vide : la soi-disant « éclaboussure », les électrons dedans

un champ électrique sous l'action d'accélérer le processus du vol au substrat avec l'atome d'argon

collision, ionisation un grand nombre d'ions d'argon et électrons. L'électron vole vers le substrat,

l'ion d'argon accélère le matériel de cible sous l'action du champ électrique, pulvérisant un grand

le nombre d'atome de cible, et l'atome neutre de cible (ou la molécule) est déposé sur le substrat pour former

film. Électron secondaire dans l'accélération à voler au substrat par le champ magnétique en cours de lorentz

force magnétique, l'influence du secteur confiné près du plasma de surface de cible, la densité de plasma dans

le secteur est électron très haut et secondaire sous l'action du champ magnétique autour de la surface de cible est

le mouvement circulaire, le chemin de mouvement d'électron est très long, constamment en cours de mouvement de l'impact

ionisation un grand nombre de bombardement d'ion d'argon de cible, après beaucoup de fois de la collision du

l'énergie d'électrons réduisent graduellement, moulé le joug des lignes de champ magnétique, à partir de la cible

matériel, le dépôt final sur le substrat.